ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收的必要性
1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價格昂貴。
2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購成本。
3. 環(huán)保要求：減少廢棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
主要回收業(yè)務(wù)：
銦類：銦錠、銦絲、精銦、銦線、銦粒、銦型材、銦片、銦板、銦帶、銦條、銦排、純銦、工業(yè)廢、銦、銦管、氧化銦、電解銦、高純銦、ITO靶材、ITO靶粉、銦錫合金、銦錫氧化物。